Ultrasonic úðahúðun í hálfleiðaraiðnaði

Ultrasonic úðahúðun fyrir hálfleiðaraiðnað er nákvæm þunn-filmuútfellingartækni sem notar há-tíðni úthljóðsorku til að úða hálfleiðaraefni (eins og ljósviðnám og leiðandi efni) í fína, einsleita dropa. Þessum dropum er síðan úðað nákvæmlega á yfirborð undirlagsins með því að nota burðargas, sem leiðir til-gæða, einsleitrar þunnrar-filmuhúðunar. Þessi tækni býður upp á kosti eins og mikla afköst, mikla nákvæmni, lítið efnistap og þunnt, einsleitt húðun. Það er mikið notað í hálfleiðaraframleiðslu, nýrri orku og glerhúð, sem kemur í stað hefðbundinna úðaaðferða.

 

Ljósviðnámsúðun er lykilferlistækni til að ná samræmdu ljósþolshúðun í nákvæmum framleiðsluforritum eins og hálfleiðurum og skjáborðum. Það er sérstaklega hentugur til að húða ó-flöt undirlag (eins og 3D flís og MEMS tæki) eða stór undirlag (eins og OLED spjöld), sem tekur á takmörkunum hefðbundinnar snúningshúðunar í sérstökum notkunum.

Kjarninn í sprautun á ljósviðnám er að umbreyta fljótandi ljósþolnum í einsleita dropa á míkron-kvarða (eða jafnvel nanómetra-kvarða) með líkamlegri sprautun. Þessir dropar eru síðan afhentir á yfirborð undirlagsins með því að nota nákvæmlega stýrt loftflæði og þrýsting. Að lokum dreifast droparnir, sameinast og bakast á undirlagið til að mynda samfellda, einsleita ljósþolsfilmu.

 

Ultrasonic atomization úða er lykiltækni í nákvæmni framleiðslu sviðum eins og photoresist húðun og hagnýtur þunn filmu undirbúningur. Kjarnaaðferð þess er að nota há-úthljóðs titring til að umbreyta fljótandi efni (eins og ljósviðnám, málmforefni og líffræðileg hvarfefni) í einsleita dropa á míkrómetra eða jafnvel nanómetra mælikvarða. Þessir dropar eru síðan fluttir á yfirborð undirlagsins með nákvæmu loftstreymi og mynda að lokum samfellda, einsleita filmu. Í samanburði við þrýstingsúðun og rafstöðueiginleikar, býður ultrasonic atomization kosti yfir þrýstingsúðun og rafstöðueiginleika, sem leiðir til víðtækrar notkunar þess í forritum sem krefjast mjög mikillar efnisstöðugleika og húðunarnákvæmni, vegna skorts á vélrænni klippingu og mjög stjórnanlegum dropastærð.

 

Vinnureglu

1. Ultrasonic atomization:

Kjarni tækisins er úthljóðstúturinn, sem inniheldur transducer sem breytir raforku í há-vélrænan titring.

2. Vökvaeisting:

Þegar vökvi (lausn, sól eða sviflausn) streymir í gegnum stútinn, myndar titringsúðarinn titring. Þegar titringsmagnið fer yfir yfirborðsspennu vökvans er vökvinn brotinn í míkron-dropa.

3. Gasflutningur:

Atómdroparnir eru síðan fluttir jafnt yfir á yfirborð undirlagsins með fyrirfram ákveðnu magni af burðargasi (eins og lofti).

4. Þunn filmuútfelling:

Dropar eru settir á undirlagið og mynda samfellda þunnt filmuhúð.

Kostir í hálfleiðaraforritum

Mikil nákvæmni og einsleitni:

Hæfni til að setja ofur-þunn og einsleit þunn filmuhúð er mikilvæg fyrir notkun í hálfleiðaraframleiðslu, eins og ljósþol, leiðandi filmur og einangrunarfilmur, sem krefjast mjög mikillar nákvæmni.

Minni efnistap:

Í samanburði við hefðbundna úða, framleiðir úthljóðsúðun nánast ekkert dropahopp eða umfram skvett, sem eykur efnisnýtingu nokkrum sinnum, sem gerir það sérstaklega hentugt til að húða dýr efni.

Mjúk úða:

Sprautunarferlið er mildt og skemmir ekki undirlagið, sem gerir það hentugt fyrir brothætt hálfleiðaraefni og rafeindaíhluti.

Fjölbreyttir stútar:

Hægt er að velja stúta af mismunandi breiddum, lengdum, lögun og flæðishraða til að uppfylla sérstakar umsóknarkröfur, sem gerir samræmda húðun á staðbundnum eða stórum svæðum.